チタンターゲット

チタン ターゲットは、物理蒸着 (PVD) スパッタリング プロセスで使用される主要な原材料です。高エネルギー粒子がその表面に衝突し、チタン原子またはイオンをスパッタリングし、基板上に高純度、高性能のチタンまたはチタン化合物の膜を形成します。

▸コア機能と技術仕様:
1.超高純度: 99.99% (4N) から 99.9999% (6N) までのさまざまな純度レベルで入手可能なこれらのターゲットは、さまざまな用途の厳しい不純物要件を満たし、優れた導電性、耐食性、生体適合性を保証します。
2. カスタマイズ可能なサイズと重量: フルオーダーメイドでの制作にも対応しております。特定の顧客の装置チャンバー、プロセス要件、スパッタリング電力に合わせて最大のサイズと重量を設計および製造できるため、プロセスの柔軟性が最大限に高まります。
3.専門的な梱包: これらの高価で高精度のターゲットは木箱またはパレットに安全に梱包され、輸送および保管中の損傷、汚染、変形から保護され、業界の出荷基準を満たしています。

▸中核となるアプリケーション分野:
1. LCD ディスプレイ (液晶ディスプレイ): 薄膜トランジスタ (TFT) アレイの電極 (ゲート、ソース/ドレインなど) またはバリア層を堆積するために使用され、性能と歩留まりを表示するために重要です。
2. 医療機器とインプラント: 人工関節、骨ネジ、歯科インプラント、心臓血管ステントなどの医療機器の表面に高純度チタンまたは窒化チタンの薄膜を蒸着するために使用され、製品の生体適合性、耐摩耗性、耐食性、オッセオインテグレーションが大幅に向上します。