チタンスパッタリングターゲット
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チタンスパッタリングターゲット

  • 99.9-99.9995%

  • お客様の図面に応じた加工

  • 木箱

  • 半導体

可用性ステータス:
数量:

チタンターゲットの概要:


特定の形状(円形、四角形、またはその他の複雑な形状)および純チタンまたはチタン合金から特定のプロセスで製造された微細な表面を備えたチタンターゲット。


チタンターゲットはその優れた性能により、液晶ディスプレイ、太陽電池、磁性材料等の分野で幅広く使用され、基礎材料として重要な役割を果たしています。たとえば、LCD の製造では、マグネトロン スパッタリングによってチタン ターゲットを製造し、純粋で均一なチタン膜を生成できるため、製品の性能が大幅に向上します。


試験方法:GDMS、LECO

化学成分、≦、単位[wt%]ppm(1ppm=0.0001%)

プロジェクト

3N

3N5

4N

4N5

5N

5N5

完全な純度

≥99.9

≥99.95

≥99.99

≥99.995

≥99.999

≥99.9995

-

-

1

0.5

  0.01

  0.01

アル

-

50

10

3

2

2

として

-

-

10

1

0.5

0.5

アウ

-

-

1

0.5

  0.25

  0.25

B

-

1

-

0.1

  0.05

  0.05

なれ

-

-

-

0.5

0.5

0.5

-

-

-

0.1

  0.05

  0.05

Ca

-

-

1

1

0.5

0.5

CD

-

-

-

1

0.2

0.2

Cl

600

10

5

1

0.1

0.1

-

-

5

1

  0.05

  0.05

Cr

-

20

5

1

0.8

0.8

-

50

5

2

1

1

F

-

-

-

15

0.5

0.5

700

200

10

7

5

3

水銀

-

-

-

0.5

0.5

0.1

K

-

0.1

0.1

  0.05

  0.05

  0.01

-

0.1

0.1

  0.05

  0.05

    0.005

マグネシウム

-

1

2

1

0.1

0.1

-

10

5

1

1

0.5

モー

-

-

4

1

  0.05

  0.05

-

-

0.2

  0.03

  0.03

  0.03

250

25

5

1

0.5

0.5

P

-

-

-

1

  0.25

  0.01

-

-

-

1

0.1

  0.01

PD

-

-

-

0.1

0.1

  0.01

S

-

-

10

10

5

3

Sb

-

-

7

0.5

0.5

  0.05

200

50

5

2

1

1

SN

-

-

5

1

0.5

  0.01

-

-

-

0.5

0.5

  0.05

Th

-

0.001

0.001

     0.0005

      0.0001

      0.0001

U

-

0.001

0.001

     0.0005

      0.0001

      0.0001

V

-

-

-

1

1

1

W

-

-

-

1

0.1

0.1

亜鉛

-

-

5

1

0.1

0.1

ジル

-

-

5

3

1

1

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Br

-

-

-

0.5

0.5

0.5

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Cs

-

-

-

0.1

0.1

0.1

-

-

-

0.5

0.5

0.5

-

-

-

0.5

0.5

0.5

Hf

-

-

-

1

1

1

I

-

-

-

0.1

0.1

0.1

In

-

-

-

0.1

0.1

0.1

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ポイント

-

-

-

0.1

0.1

0.1

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Rh

-

-

-

0.2

0.2

0.2

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Sc

-

-

-

0.1

0.1

0.1

-

-

-

0.5

0.5

0.5

広報

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Nd

-

-

-

0.1

0.1

0.1

SM

-

-

-

0.1

0.1

0.1

欧州連合

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ゴッド

-

-

-

0.1

0.1

0.1

TB

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ディ

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ホー

-

-

-

0.1

0.1

0.1

えー

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Tm

-

-

-

0.1

0.1

0.1

イブ

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ルー

-

-

-

0.1

0.1

0.1

オス

-

-

-

0.1

0.1

0.1

イル

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ポイント

-

-

-

0.1

0.1

0.1

TL

-

-

-

0.1

0.1

0.1

C

200

150

50

30

30

30

H

50

10

5

10

6

6

N

200

100

50

30

30

30

O

800

700

450

300

200

100


高純度チタンターゲットの応用


高純度チタンターゲットは、エレクトロニクス、光学、生物医学、航空宇宙、エネルギー、研究などの業界で幅広く応用されています。  

これらのターゲットは、エレクトロニクス産業における高度な集積回路、半導体デバイス、MEMS の製造に使用されます。  

光学分野では、レンズ、ミラー、フィルターの性能を向上させるための精密光学コーティングに使用されています。    

高純度チタンターゲットは、その生体適合性と耐食性により、医療用インプラントや医療機器にとって極めて重要です。  

また、航空機エンジンの重要なコンポーネントとして航空宇宙産業でも重要な役割を果たしています。  

エネルギー分野では、これらのターゲットは太陽電池や燃料電池の薄膜コーティングに利用されています。

 さらに、高純度チタンターゲットは研究開発目的に不可欠であり、材料特性の調査に役立ちます。  

全体として、高純度チタンターゲットの卓越した特性と高い化学純度により、高純度チタンターゲットはさまざまなハイテク用途に不可欠なものとなっています。


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Ningbo Chuangrun New Materials Co., Ltd。(CRNMC) は 2012 年 6 月に設立され、4 つの生産拠点を持っています。

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